Io|nen|im|plan|ta|ti|on: zur ↑ Dotierung entwickeltes Verfahren, bei dem Halbleiterwerkstoffe gebündelten ↑ Ionenstrahlen ausgesetzt werden, deren Eindringtiefe von der Beschleunigungsenergie (keV – MeV) abhängt.
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Ionenimplantation,
Halbleitertechnologie: Dotierung.
Universal-Lexikon. 2012.